锂电池极片表面缺陷有哪些？

晶圆刻蚀残留检测是半导体制造良率控制的关键环节。由于刻蚀残留缺陷（如未刻透的氧化层、金属残留、聚合物残留）尺寸极小（纳米至微米级），且背景纹理复杂，传统的基于规则或简单模板匹配的机器视觉系统往往难以胜任。

晶圆显影缺陷机器视觉检测系统主要用于显影后检查（ADI, After Develop Inspection），这是光刻工艺中的关键质量控制环节。该系统能够在显影工序完成后，自动检测光刻胶图形的缺陷，包括显影不完全、残留、桥接、缺失图案等问题。

显示模组作为现代电子设备的核心显示单元，广泛应用于消费电子、车载显示、工业控制、医疗设备、智能穿戴等领域，而玻璃作为显示模组的核心承载部件（包括盖板玻璃、Cell玻璃、触控玻璃等），其完整性直接决定显示效果、触控性能与产品使用寿命。

输液瓶（通常为玻璃或聚丙烯材质，透明或半透明）液位的检测，主要难点在于液体透明、反光、以及液体与空气的分界线（月牙面）特征不明显。